四氟化鈦呈白色粉末，其可與干燥的氣體如O2、N2、CO、CO2、HCl、SO3、CS2等都不反應(yīng)。在微電子工業(yè)中用作化學(xué)氣相沉積或離子注入形成硅化鈦或鈦膜，制作低電阻、高熔點(diǎn)的電路互聯(lián)線和柵極。其制備方法有兩種，一種是采用高純金屬鈦粉直接氟化，反應(yīng)產(chǎn)物在280～290℃下進(jìn)行升華純化，可獲得純度達(dá)99％ 的四氟化鈦產(chǎn)品，如研究公開的一種制備四氟化鈦的方法即采用高純金屬鈦粉直接氟化的方法；另一種是將無水氟化氫和TiCl4反應(yīng)，反應(yīng)產(chǎn)物在無水情況下進(jìn)行蒸餾，TiF4在284℃時(shí)升華即生成白色固體TiF4。